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熱解氮化硼化學氣相生長爐
熱解氮化硼化學氣相生長爐
產(chǎn)品描述:
用于氮化硼的化學氣相涂層與生長
應(yīng)用范圍:
OLED坩堝、PBN板材/環(huán)舟、VGF坩堝、LEC坩堝等。產(chǎn)品純度≥99.999%/99.9999%。

熱解氮化硼化學氣相生長爐技術(shù)特征

采用先進的進控制技術(shù),能精密控制BCl3/NH3的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動??;

多通道工藝氣路,配合旋轉(zhuǎn)料臺,無沉積死角;

多級尾氣處理系統(tǒng),能高效處理腐蝕性尾氣、固體副產(chǎn)物,環(huán)境友好;

可選配最新設(shè)計的防腐蝕真空機組,持續(xù)工作時間長,維修率低;

適于工藝氣氛:真空/H2/N2/Ar/BCl3/NH3。


熱解氮化硼化學氣相生長爐產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號VCVD-0305-BNVCVD-0608-BNVCVD-0612-BNVCVD-0812-BNVCVD-1015-BNVCVD-1218-BNVCVD-1315-BNVCVD-1520-BN
工作區(qū)尺寸 φ×H(mm)300×500600×800600×1200800×12001000×15001200×18001300×15001500×2000
最高溫度(℃)2000
溫度均勻性(℃)±5±7.5/±10±7.5/±10±7.5/±10±10/±15±10/±15±10/±15±15/±20
極限真空度(Pa)1-100
壓升率(Pa/h)0.67
加熱方式電阻

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進行調(diào)整,不作為驗收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準。

熱解氮化硼化學氣相生長爐配置選擇

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